1、不銹鋼彎頭化學(xué)拋光

化學(xué)拋光是優(yōu)先溶解化學(xué)介質(zhì)表面微凸部分的凹部分，以獲得光滑的表面。該方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需要復(fù)雜的設(shè)備，可對(duì)形狀復(fù)雜的工件進(jìn)行拋光，同時(shí)可對(duì)許多工件進(jìn)行拋光，效率高。化學(xué)拋光的核心問題是制備拋光液。一般來說，通過化學(xué)拋光獲得的表面粗糙度是10。μm。

2、不銹鋼彎頭點(diǎn)解拋光

脫離工件的金屬離子與拋光液中的磷酸鹽形成一層磷酸鹽膜，吸附在工件表面。該粘膜在凸起處較薄，凹處較厚。由于凸起處電流密度高，溶解速度快。由于粘膜的流動(dòng)，凹凸不斷地變化，粗糙的表面逐漸變平。工件是陽極直流電源的正極。使用耐電解液腐蝕的鉛、不銹鋼等導(dǎo)電材料作為陰極，連接DC電源的負(fù)極。兩者之間的距離浸泡在電解質(zhì)（一般以硫酸和磷酸為基本成分）中，在一定溫度、電壓和電流密度（一般低于1安/cm2）下通電一段時(shí)間（一般為幾十秒到幾分鐘）。工件表面的小凸起部分首先溶解，逐漸變成光滑明亮的表面。

3、不銹鋼彎頭機(jī)械拋光

機(jī)械式拋光分為粗拋光和細(xì)拋光。粗拋光是用粗呢絨在電動(dòng)拋光盤上進(jìn)行的，速度為200-300轉(zhuǎn)/分。粗拋光時(shí)，應(yīng)適當(dāng)撒上較粗的氧化鉻、氧化鋁或氧化鎂拋光液，并保持拋光盤上的毛絨濕潤(rùn)。粗糙拋光過程中要緊緊抓住樣品，沿著拋光盤的徑向往復(fù)運(yùn)動(dòng)，均勻調(diào)整施加的壓力，注意壓力不能過大。拋光開始時(shí)，要不時(shí)的撒些拋光液。然后慢慢降低壓力，降低拋光液的濃度，直到細(xì)磨痕消失，光滑明亮，無黑點(diǎn)。粗拋光樣品經(jīng)水洗凈后進(jìn)行細(xì)拋光，通過細(xì)拋光去除粗拋光留下的磨痕，使磨面光亮光滑。用于細(xì)拋光的拋光機(jī)與用于粗拋光的設(shè)備基本相同，轉(zhuǎn)速為150-200轉(zhuǎn)/分。